【低（dī）溫裝備】別說你懂特氣，260種特（tè）氣（qì）用途你都知道嘛（ma）？

【低溫裝備（bèi）】260種特種（zhǒng）氣體
260種單元高純特種氣體的用途
1
氮氣-N2
純度要求>99.999%,用作標準氣、在線儀表標準氣、校正氣、零點氣、平衡氣；用於半（bàn）導體器件製備工藝中（zhōng）外延、擴散、化學氣相澱積、離子注入、等（děng）離子幹刻、光（guāng）刻、退（tuì）火、搭接、燒結（jié）等工序；電器、食品包裝、化學等工業也要用氮氣。
2
氧氣-O2
>99.995%,用作標準氣在線儀表標（biāo）準氣、校正氣、零點氣；還可用於醫療氣；在半（bàn）導體器件製（zhì）備工藝中用於（yú）熱氧化、擴散、化學氣相澱積、等離子幹（gàn）刻等工序（xù）；以及用於光導纖維的製備。
3
氬氣-Ar
>99.999,用作標（biāo）準氣、零點氣、平衡氣；用於半導體器件製（zhì）備工藝中晶體生長、熱氧化、外延、擴散（sàn）、氮化（huà）、噴射、等離子幹刻、載流、退火、搭接、燒（shāo）結等工序；特種混合（hé）氣（qì）與工業混合氣也使用氫。
4
氫氣-H2
>99.999%,用作標準氣、零點氣、平衡氣（qì）、校正氣、在線儀表標準（zhǔn）氣；在半導體器件製備工藝中用於晶休生長、熱氧化、外延、擴散、多晶矽、鎢化、離（lí）子注入、載流、燒結等工序；在（zài）化學、冶金等工業中也有用。
5
氦氣-He
>99.999%,用（yòng）作標準氣、零點氣、平衡氣（qì）、校正氣、醫療氣；於半導體器件製備工藝中晶體生（shēng）長、等離子（zǐ）幹刻、載流（liú）等工序；另外（wài）,特種混合氣與工業（yè）混合氣也常用。
6
氯氣-Cl2
>99.96%,用作標準氣、校正氣；用於半導體器件製備工藝中晶體生長、等（děng）離子幹刻、熱氧化等工序；另（lìng）外,用於水淨化（huà）、紙漿與（yǔ）紡織品的漂白、下業廢品、汙（wū）水、遊泳池的（de）衛生處理；製備許多化學產品。
7
氟氣-F2
>98%,用（yòng）於半導體（tǐ）器件製備工藝中等離子幹（gàn）刻；另外,用於製備六氟（fú）化鈾、六氟化硫、三氟化硼和金屬氟化物等。
8
氨（ān）氣-NH3
>99.995%,用作標準氣、校正氣、在線儀表標（biāo）準氣；用於半導體器件製備工藝中氮化工序；另外,用於製冷、化肥、石油、采礦（kuàng）、橡膠等工業。
9
氯化氫-HCI
>99.995%,用作標準氣；用於半導體器件製備工藝（yì）中外延、熱氧化、擴散等工序；另外,用於橡膠（jiāo）氯氫化反應中的化學中間體、生產乙烯基和烷基氯化物時起氧氯化作用。
10
一氧化氮（dàn）-NO
>99%,用作標準氣（qì）、校正氣；用於半導體器件製備（bèi）工藝中（zhōng）化學（xué）氣相澱積主序；製備監控大氣汙染的標準混合氣。
11
二氧化碳-CO2
>99.99%,用作標準氣、在線儀表標推氣、校正氣；於半導體器件製備工藝中氧化、載流工序警另外（wài）,還用於（yú）特（tè）種混合氣、發電、氣體置換處理、殺菌氣體稀釋（shì）劑、滅火（huǒ）劑、食品（pǐn）冷（lěng）凍、金屬冷處理、飲料充氣、煙霧噴射劑、食品貯存保護氣等。
12
氧化亞氮-N2O,(即笑（xiào）氣)
>99.999%,用作標準氣、醫療氣；用於半導體器件（jiàn）製備工藝中化學（xué）氣相澱積、醫月麻（má）醉劑、煙霧噴（pēn）射劑、真空和帶壓（yā）檢漏；紅外光（guāng）譜分（fèn）析儀等也用。
13
硫化氫-H2S
>99.999%,用作標（biāo）準氣、校正（zhèng）氣；用於半導體器件製備工藝中等離子幹（gàn）刻,化學工業中用於（yú）製（zhì）備硫（liú）化物,如硫（liú）化鈉,硫化有機（jī）物；用作溶劑；實驗室定量分析用。
14
四氯化碳-CCl4
>99.99%,用作標準氣；用（yòng）於半導（dǎo）體（tǐ）器件製（zhì）備工藝中外延丫、化學氣（qì）相澱積等工序；另外,用作溶劑、有機物的氯化劑（jì）、香料的浸出劑、纖維的脫脂劑（jì）、滅火劑、分析試劑、製備氯仿（fǎng）和藥物（wù）等。
15
氰化（huà）氫-HCN
>99.9,用於半導體器件製備工（gōng）藝中（zhōng）等離子幹刻工序；製備氫氰酸（suān）溶液,金屬氰化（huà）物、氰氯化物（wù）；也用於製備丙烯睛和丙烯衍生物的合（hé）成中間體。
16
碳酰氟-COF2
>99.99%,用於半尋體器件製備工藝中等離子幹刻工序；另外,用作氟化劑。
17
碳酰硫-COS
>99.99%,用（yòng）作校正氣；用於半導（dǎo）體器件製備工藝（yì）中離子注入工序；也用於（yú）有些羧基、硫（liú）代酸、硫代碳酸鹽和（hé）噻唑的合（hé）成。
18
碘化氫-HI
>99.95%,用於半（bàn）導體器件製備工（gōng）藝中離子注入工序；還用於氫碘酸溶液製備。
19
嗅化氫-HBr
>99.9%,用於半導體（tǐ）製備工（gōng）藝（yì）中（zhōng）等離子幹刻工（gōng）序；用作還原劑,製備有機（jī）及無機澳化合物。
20
矽烷-SiH4
>99.999%,電阻率>100Ω/cm2,用於半導體器件製（zhì）備（bèi）工藝中外延、化學氣（qì）相澱積等工序。
21
乙矽烷（wán）-Si2H6
>99.9%,用於半導體製備工藝中（zhōng）化學氣相澱積（jī）。
22
磷烷-PH3
>99.999%,用（yòng）於半導體器件製備（bèi）工藝中外延、擴散、化學氣相澱積、離子注入等（děng）工序；磷烷與二（èr）氧化碳混合的低濃度氣體,可用於（yú）殺（shā）死糧倉的蟲卵和製（zhì）備（bèi）阻火化合物。
23
砷烷-AsH3
>99.999%,用於半導體器件製備（bèi）工藝中外延、擴散、化學氣相澱積、離子（zǐ）注入等工序（xù）。
24
硼烷-B2H6
>99.995%,用於半導體器件製備工藝（yì）中外延、擴散、氧化等工序；用於有些化學工業合成過程:如氫硼化反應(即生成醇類),有機功（gōng）能的衰退,製（zhì）備較高的硼烷衍生物和碳甲（jiǎ）硼烷化合物。
25
鍺烷-GeH4
>99.999%,用於半導體器件製備工藝中外延、離子注入工序。
26
銻烷-SbH3
>99.999%,用於半導體器件製備工藝中外延、離子注入工序。
27
四氧甲矽烷-Si(OC2H5)4
>99.99%,用於半導體器件製備工藝中（zhōng）化學氣相澱積工序。
28
乙烷-C2H6
>99.99%,用（yòng）作標準氣、校正氣、在線儀表標準氣（qì）；用於（yú）半導體器件（jiàn）製備工藝中等離子幹刻工序；還用於冶金工業的熱處理（lǐ）,化學工業中製備乙醇、氧（yǎng）化乙二醇、氯乙烯、高醇類、乙醛等。
29
丙烷-C3H8
>99.99%,用作標準氣、校（xiào）正氣、在（zài）線儀表標準氣；用於半導體器件製備（bèi）工藝中等離子（zǐ）幹刻工序；另外,用（yòng）於燃料、冷凍劑（jì）、製備乙烯與丙烯的原料。
30
硒化氫-H2Se
>99.999%,用於半導體器件製備（bèi）工藝中擴散、離子注入工（gōng）序。
31
碲化氫-H2Te
>99,999%,用於半導體器件製備工藝中擴散、離子注入工序。
32
二氯（lǜ）二氫矽-SiH2Cl2
>99.999%,用於半（bàn）導體器件製備工藝中外延、化（huà）學氣相澱積工序。
33
三（sān）氯氫矽-SiHCl3
>99.999%,用於半導體（tǐ）器件製備工藝中外延、化學氣相澱積工序。
34
二甲基碲-(CH3)2Te
>99.999%,用於半導（dǎo）體器件製備工藝中擴（kuò）散、離子注入工序。
35
二乙基碲-(C2H5)2Te
>99.999%,用於半導體器件製備工藝（yì）中擴散、離子注入工（gōng）序。
36
二甲基鋅(CH5)2Zn
>99.999%,用於半導體器件製備工藝中化（huà）學氣相澱積工序。
37
二乙基鋅(C2H5)2Zn
>99.999%,用於半導體器件製備（bèi）工（gōng）藝中（zhōng）化學氣相澱積工序。
38
三氯化磷-PCl3
>99.99%,用於半導體器件製備（bèi）工藝中擴散,鍺的外延生長和（hé）離子注入工藝；PCl3是有機物的良好氯化劑（jì）；也用於含磷有機物的合成。
39
三氯化砷-AsCl3
>99.99%,用於半導體器件製備工藝（yì）中的外延（yán）和離子注入。
40
三氯化硼-BCl3
>99.99%,用於（yú）等離子幹刻、擴散；作硼載（zǎi）氣及一些有機反應的催化劑；精煉鎂、鋅、鋁、銅合金時從溶化金屬中除掉氮、碳、氧化合物（wù）。
41
四（sì）氯化矽-SiCl4
>99.999%,用（yòng）於半導體器件製備工藝中外延、化學氣相澱積工序。
42
四氯化錫-SnCl4
>99.99%,用於（yú）外延、離子注入。
43
四氯化鍺-GeCl4
>99.999%,用於離子注入。
44
四氯化欽-TiCl4
>99.99%,用於等離子幹刻。
45
五氯化磷-PCl5
>99.99%,用於外延（yán）、離子注入。
46
五氯化銻-Sb=Cl5
>99.99%,用於外延、離子注入。
47
六氯化鑰-MoCl6
>99.9%,用於化學氣相澱積。
48
三嗅化硼-BBr3
>99.99%,用於半（bàn）導（dǎo）體器（qì）件製備工藝中離子注入工序和製備光導纖維。
49
三（sān）嗅化磷-PBr3
>99.99%,用於外延、離子注入。
50
磷酞氯-POCI3
>99.999%,用於擴散工序。
51
三氟化硼-BF3
>99.99%,用於離（lí）子注入；另（lìng）外,可作載氣、某（mǒu）些有機反應的催化劑；精煉鎂（měi）、鋅、鋁、銅合金時從熔化金屬中除掉氮、氧、碳化物。
52
三氟化（huà）磷-PF3
>99%,用於外（wài）延、離子注入工序；另外用作氟化劑。
53
三氟化砷-AsF3
>99%,用（yòng）於外延、離子注入工序；另外（wài）用作氟化（huà）劑。
54
二（èr）氟化（huà）氨-XeF2
>99.9%,用於外延、離子注入工序；用於固（gù）定模具氨的考察及原子反應（yīng）堆排放廢氣（qì）中氮的測定。
55
三氟（fú）氯甲烷-CClF3,(R-13)
>99.995%,用於等離子幹刻工序；冷凍劑、空調均（jun1）可用（yòng）。
56
三氟甲烷-CHF3,(R-23)
>99.999%,用於等離（lí）子幹刻工序;低（dī）溫冷凍劑。
57
三（sān）氟化氮-NF3
>99.99%,用（yòng）於等（děng）離子幹刻（kè）工序（xù）;火箭推進劑（jì）、氟化劑。
58
三氟嗅甲烷-CBrF3,(R13B1)
>99.99%,用於等離子幹刻工序;還用於空調、低溫冷凍及滅火劑。
59
三氟化（huà）硼-11-B11F3
>99.99%,用於離子注入工序(天然硼的同位素,含11B8l%,10B19%。出售的11B是濃縮（suō）含（hán）有（yǒu）96%同位素BF3);還用於製備光導纖維。
60
四氟（fú）化碳-CF4,(R-14)
>99.99%,用於等離子幹刻工序;在很低溫度下作為低（dī）溫流體用;也用（yòng）於中性及惰性氣（qì）體。
61
四氟化（huà）硫-SF4
>98%,用於（yú）等離子幹刻（kè）工序（xù）;氟化劑、表麵處理（lǐ）劑。
62
四氟化矽-SiF4
>99.99%,用於化學氣相澱積工序;製備氟矽（guī）酸及其鹽類。
63
四氟化鍺-GeF4
>99.999%,用於離（lí）子注入工序。
64
五氟化磷-PF5
>99.9%,用於離子注入、等離（lí）子幹刻工序;另外,用作氟化劑（jì）,聚合、烴化及脫烴化反（fǎn）應（yīng）、烴類裂（liè）化反應時作催化劑。
65
五氟氯乙烷-C2ClF6,(R-115)
>99.99%,用於等離子幹刻工序;另外,作冷凍劑、煙霧噴氣劑。
66
五氟化砷-AsF5
>99%,用於外延、離子注入工序,氟（fú）化劑。
67
六氟乙烷-C2F6,(R-116)
>99.99%,用於等離子幹刻工序;用（yòng）作冷（lěng）卻、冷凍劑和（hé）空調;單體（tǐ）生產的原料;化學反應中的添氟劑、電器（qì）設備的絕緣劑（jì）。
68
六氟化硫-SF6
>99.99%,用作標準氣;用於（yú）化學氣相澱積工序;由（yóu）於在高電（diàn）壓下具有很高的電阻,用作電器設備的絕緣劑;檢漏氣體,實驗室中作色譜儀的載氣。
69
六氟化鎢-WF6
>99.99%,用於化學氣（qì）相澱積工序;強烈的氟化劑;也用作鎢載體。
70
六氟（fú）化氧-(CF3)2O2
>99.99%,用於等離子幹刻工序。
71
六（liù）氟（fú）乙酰-(CF3)2CO
>99.99%,用於等離子幹刻工（gōng）序。
72
六氟乙酞氧-(CF3CO)2O
>99.99%,用於等離子幹刻工序（xù）。
73
六氟化錸-ReF6
>97%,用於離（lí）子注入（rù）工序;氟（fú）化劑。
74
八氟丙烷-C3F8,(R-218)
>99.9%,用於等（děng）離子幹刻工序;與氟利昂相混合作冷凍劑;高壓電的絕緣劑。
75
八氟環丁烷-C4F8,(RC318)
>99.99%,用於等離子（zǐ）幹刻工序;用作冷卻劑、冷（lěng）凍劑;作電器和電（diàn）子（zǐ）設備的氣體絕緣。
76
十二氟戊烷-C5F12
>99.9%,用於等（děng）離（lí）子幹刻工序;也可與（yǔ）CF4相混用。
77
三甲基鋁-(CH3)3Al
>99.999%,用於化學（xué）氣相澱積工序;金屬的有機合成。
78
三甲基镓-(CH3)3Ga
>99.999%,用於化學氣相澱積工序;金屬的有機合成。
79
三（sān）甲基銻-(CH3)3Sb
>99.999%,用於化（huà）學氣相（xiàng）澱積工序;金（jīn）屬（shǔ）的有機合成。
80
三甲（jiǎ）基錮-(CH3)3In
>99.999%,用於化學氣相澱（diàn）積工（gōng）序;金屬的有機（jī）合成。
81
三乙基鋁-(C2H5)3Al
>99.999%,用於化學氣相澱積（jī）工序;金屬的有機合成。
82
三乙基（jī）镓-(C2H5)3Ga
>99.999%,用於（yú）化學氣相澱積工序;金屬的有機（jī）合成。
83
四乙基鉛-(C2H5)4Pb
>99.999%,用於化學氣相澱積工序。
84
丙烯腈-C3H3N
>99.9%,用於等離子幹刻工序。
85
1,1,2-三氯乙烯-C2HCl3
>99.99%,用作標準氣、校正氣（qì）、醫（yī）療氣;用於半導體器件製備工藝（yì）中熱氧化工序;另外,用於金屬的脫脂劑和脂肪、油、石（shí）蠟（là）等萃取劑,衣服幹洗,冷凍劑,殺菌劑。
86
甲烷-CH4
99.999%,用作標準氣、校正（zhèng）氣、在線儀表標準氣;作燃料、宇宙飛船中氣體電池。
87
甲烷硫醇-CH3SH
>99.5%,用作標準氣、校正氣;用於有機合成;作為噴氣燃料（liào）添加劑,殺真菌劑和蛋氨酸的中（zhōng）間（jiān）體。
88
一甲胺-CH3NH2
99%,用於硫化（huà）促進劑、藥物、染料和炸藥等（děng）,並作溶劑、有機合成、醋酸人造纖維。
89
甲醇-CH3OH
>99.9%,用作標準氣,與空氣混合後作校正氣;用於製備甲醛和農（nóng）藥鄉用於（yú）有機物質的萃取劑和酒精的變（biàn）性劑。
90
二甲胺-(CH3)2NH
>99%,用作抗氧化（huà）劑;在溶液中作浮洗.劑、汽油穩定劑、橡膠加速劑等（děng）。
91
二甲醚-(CH3)2O
>99.9%,在化學工業中用作配製合成橡膠和甲硫醚;用作甲基劑、萃取（qǔ）劑、溶劑;也用作製冷劑。
92
乙炔-C2H2
>99.9%,用作標準氣、校正氣;化學工業中的中間體,如製備乙烯、乙醛（quán）、醋（cù）酸（suān）乙烯、氯乙烯、乙烯醚等;用於原子（zǐ）吸收（shōu）光譜。
93
乙烯（xī）-C2H4
>99.99%,用作在（zài）線（xiàn）儀表標準氣、標準氣、校正氣;是化學工業合成中的重要原料,生產塑料的（de）中間體,生產乙醇、醋酸、氧化乙烯、氯乙烯（xī）、乙苯等的原料（liào）;也用於焊接和切割、冷凍劑、某些水果、蔬菜生長的加速劑。
94
氧（yǎng）化乙烯-C2H4O
99.9%,用作標準氣、校正氣、醫療氣;與CO2、R11、R21相混合作消毒劑,文物保管,皮革消毒,清洗衣（yī）料均可采用;化學工業（yè）中用作中間體,生產液體或固體聚乙二醇（chún）、乙醇胺類等。
95
溴代（dài）乙烯-C2H3Br
>99.9%,用作有機合（hé）成的中間（jiān）體（tǐ）,用聚合法與（yǔ）共聚法來製備塑料。
96
一乙胺-CH3CH2NH2
>99%,水溶液中含有70%乙胺,作為下列化學工（gōng）業製備中的中間體:著色劑（jì）,電鍍池、硫化增速劑等;還用於製藥、表麵活性劑、萃取劑。
97
四氟乙烯-C2F4
>99%,在生產塑料時作為一種重要的（de）單體（tǐ）,如泰氟隆等。
98
乙醛-CH5CHO
>99.9%,用（yòng）作校正氣;用於製備酷酸、醋醉、醋酸乙酷、正丁醇、合成樹脂等。
99
二甲基二硫醚-CH3S2CH3
＞99.9%,用作校正（zhèng）氣、溶劑。
100
二甲基硫醚-CH3SCH3
>99.9%,用作校正氣、溶劑。
101
乙醇（chún）-C2H5OH
>99.9%,用作校正氣;用於溶劑,製備染料、塗料、藥物、合成橡膠等。
102
乙酰氯-CH3COCl
99.99%,用於乙酰化劑（jì）和化學試（shì）製。
103
1-羥（qiǎng）亞（yà）乙基-1,1雙磷酸-C2H8P2O7,>99.99%,簡稱HEDPA
用於特殊的洗滌（dí）、紡織漂（piāo）白分離劑、磨料和環境衛生;在石（shí）油和氣田中用作防腐劑。
104
環丙烷-(CH2)3
>99%,用於有機合（hé）成;醫藥上作麻醉劑。
105
甲基乙炔-C3H4
>99%,用作在線儀表標準氣、校正（zhèng）氣;用於（yú）製備丙酮;化學工業中作（zuò）合成（chéng）中（zhōng）間（jiān）體。
106
六（liù）氟丙（bǐng）酮-CF3COCF3
>99.9%,是強烈的反應氣,常（cháng）與脂肪酮（tóng）發生化（huà）學反應,用這些酮類可製備（bèi）不同的產品,如穩定的液（yè）體、溶劑、水泥、單體、共聚物,以及農業及藥物產品。
107
三甲胺-(CH3)3N
>99%,用作標準氣,溶液中含25%的（de）三甲胺（àn）可作抗組胺治療（liáo）處理;在化（huà）學工業中作中間體,用來生產殺蟲劑、潤濕劑、發（fā）泡劑、合成樹脂等表麵活（huó）性（xìng）劑（jì）。
108
丙烯-C3H8
>99.9%,用作標準氣、校正（zhèng）氣、在線儀表標準氣;在化學工（gōng）業上（shàng）用作製備異丙醇、氧化丙烯、氧基醇類、四氯化碳、聚丙烯等。
109
丙二烯-C3H4
99%,在線儀表標準氣;用於有機合成中間（jiān）體。
110
氧（yǎng）化丙烯-C3H6O
>99.9%,(又稱1,2-環（huán）氧丙烷),用於製備丙二（èr）醇和泡沫塑（sù）料;也是醋酸纖維素（sù）、硝酸纖維素和樹脂等的溶（róng）劑。
111
甲基（jī）乙烯醚-CH3COCH3
>99.5%,用作標準氣;用於（yú）有機合成中間體;塑料和合成樹脂製備時的原料及共聚物的生產。
112
六氟丙烯-C3F6
>99.9%,用（yòng）於有機合成（chéng）中（zhōng）間體。
113
丙酰氯-CH3CH2COCl
＞99.9%,用（yòng）於製備鹽酸、丙酸;用（yòng）作氧化劑。
114
正丁烷-C4H10
>99.99%,用作標準氣、校正氣;用作燃料,商業上主（zhǔ）要和異丁烷混合用;化學工（gōng）業中作製備中間體:乙烯、丙烯、丁烯等;作煙霧噴射劑;充入溫度計球作標準蒸汽壓型的壓力表（biǎo）;與氦混合用作電離粒子計算器。
115
異丁烷-iC4H10
>99.99%,用作（zuò）標準氣、校正（zhèng）氣;用作燃料,商業上主要和異（yì）丁烷混合用;化學工業中作製備中間（jiān）體:乙烯（xī）、丙烯、丁烯等;作（zuò）煙霧噴射劑;充入溫度計球作（zuò）標準蒸汽（qì）壓（yā）型的壓力表（biǎo）;與氦混合用作電離粒子（zǐ）計算器。
116
乙基乙炔（quē）C4H5
>99%,用作標準氣、校正氣;化學工業中（zhōng）作為合成中間體。
117
環丁烷（wán）-(CH2)4
>99%,作為液體溶（róng）劑,或與其它（tā）溶劑（jì）混（hún）合使用;也可作為合成中間體。
118
丁烯-1-C4H8
>99.9%,用作標準氣、校正氣;用於有機化合物（wù）的製備中間體;催化脫氫生成丁二烯。
119
順丁烯-2C4H8
>99%,用作標準氣、校（xiào）正氣;用於有機化合物的（de）製備中間體（tǐ）;催（cuī）化（huà）脫氫生成丁二烯、酸式硫酸鹽,加水生（shēng）成丁醇-2等;也可用作溶劑。
120
反丁烯-2-C4H8
>99%,用作標準氣、校（xiào）正氣;用於有機化合（hé）物的製備中間體;催化脫（tuō）氫生（shēng）成（chéng）丁二烯、酸式硫酸鹽,加水（shuǐ）生成丁醇-2等;也可（kě）用作（zuò）溶劑。
121
順與反丁烯-2-C4H8
>99%,用作校正氣（qì）;用途同(119)。塑料（liào）和樹（shù）脂,生產尼（ní）龍-6;也是火箭燃料組（zǔ）成部分。
122
1,3丁二烯-C4H6
>99%,用作校正氣;用聚合法和共聚法來生產合成橡膠、塑料和樹脂,生產尼龍-66;也是（shì）火箭燃料組成部分
123
異丁（dīng）烯-iC4H8
>99.9%,用作校正氣,用（yòng）於（yú）有機中間體,使氧化產生丙酮和甲酸,在液相（xiàng）或氣相中催化使生成雙（shuāng）異丁烯等;也可用來製備（bèi）合成橡膠,有很高的耐酸堿度;是良好的（de）絕緣體。
124
八氟-2-丁烯-C4H8(全氟（fú）丁（dīng）烯)
>99.5%,用於（yú）有機合成中間體。
125
二（èr）甲乙基（jī）胺-(CH3)2NC2H5
99.99%,一接觸到氧化劑,反應（yīng）劇烈;與二（èr）氧化碳混合,遇到汞會產生爆炸反應。
126
正戊烷（wán）-C5H12
>99%,用作標準氣、校（xiào）正氣;作溶劑及合成中間體。
127
異戊烷（wán）-iC5H12
>99%,用作標準氣、校正氣;作溶劑及合成中間體。
128
2,2二甲（jiǎ）基丙烷-C5H12,(又叫新戊烷)
>99.9%,是生產（chǎn）異丁烯（xī）的原料,用於生產合成丁烯橡（xiàng）膠（jiāo）。
129
3-甲基-1-丁烯-C5H10,(甲基丁烯)
>99.95%,用於有機合成中間體;也用於增加燃料的辛烷值;用於塑料的（de）聚合。
130
特戊酰氯-(CH3)3CCOCl
>99.99%,可製備氯化氫與特戊（wù）酸;可與強氧化（huà）劑反應。
131
苯-C5H6
>99.999%,用作標準氣、校正氣、零點氣（qì）;是（shì）染料、塑料、合成像膠、合成樹脂、合成纖維、合成（chéng）藥物和農（nóng）藥的原料。
132
己（jǐ）烷-C6H14
>99.9%,用作標準氣、校正氣;作溶劑。
133
三乙基鋁（lǚ）三氯-C6H15Al2Cl3
>99.99%,用於合成中間體;烯類聚合催化（huà）劑,芳烴衍生物聚合的催化劑。
134
環己烷-C6H12
>99.99%,用（yòng）作標準氣;用於製備環己（jǐ）醇和環己酮;用於（yú）合成耐6;在塗料（liào）工業中廣泛用作溶劑,也是樹脂、脂肪、石蠟、油類（lèi）的極好溶劑。
135
己二酞氯-ClOC(CH2)4COCl
>99.99%,用於製備（bèi）氯化氫與肥酸。
136
甲（jiǎ）苯-C7H8
>99.99%,用作零點氣、校正氣;用於製造糖精（jīng）、染料、藥物和炸藥等;也用作溶劑。
137
苯乙烯-C8H8
>99.9%,用作校（xiào）正氣;用於製樹脂、塑料、合成橡膠等。
138
2-乙基己酰氯-C5H10,C2H5,COCl
>99.9%,可用於製備氯化氫和2-乙基己酸（suān）。
139
辛酰氯-CH3,(CH2,)6COCl
>99.9%,是（shì）氧化劑;可用於製備鹽酸與辛酸。
140
氨（ān）基咪哇酮-C9H15,N3O3
>99.9%,用（yòng）作還原劑。
141
壬酰氯-CCH3(CH2)7COCl
>99.9%,用於製備鹽酸與壬酸。
142
新癸酰氯-C10H19OCl
>99.9%,用於製備鹽酸（suān）與新癸酸。
143
三異（yì）丁基鋁-C12H27,Al,(簡稱TIBA)
>99.99%,用於合成中間體,是聚合烯類和（hé）二烯類的催化劑。
144
十二酰氯-CH3(CH2)10COCl
>99.9%,用於製備鹽酸與（yǔ）月桂酸。
145
十八酰氯-CH3(CH2)18COCl
＞99.9%,用於製備鹽酸與硬醋酸。
146
酚（fēn）酞黃-C20H14O4
>99.9%,醫療用作瀉藥。
147
空氣(或（huò）合成空氣)-21%O2,79%N2,用作零點氣
超零點級空氣中含CnHm<0.lppm,零點級空氣中含CnHm<0.2ppm。零（líng）點級空氣經常用於（yú）色譜儀火焰離（lí）子化檢定器和總碳量分析儀中的氧化劑。
148
仲氫-H2
>99.99%,用作（zuò）火箭推進（jìn）劑;核工業中用於氣泡室;冷電（diàn）子（zǐ）工程低溫液態供固體電路研究用。
149
純水-H2O
>99.9999%,用（yòng）作標準（zhǔn）氣、校正氣（qì）。
150
氖-Ne
>99.999%,用作標準氣、特種混合氣;用於充發光燈泡、電子管、訊號燈、等離子（zǐ）體（tǐ）研究、熒光燈中啟動器、火花室、蓋革一彌勒管、
激（jī）光器;用作低溫冷卻劑。
151
氪氣-Kr
>99.995%,用作標準氣、特種混合氣（qì）、燈泡與電子工業用氣。
152
氙氣-Xe
>99.995%,用作標準氣、特種混合氣,用於電（diàn）光源、電子工業、充填閘流管和半波整流管。
153
溴氣-Br2
>99.99%,用於化學工業中製備澳化氫和其它嗅化合物、氧化劑、實驗試劑;也用於（yú）染料和攝影工業。
154
臭氧-O3
>99.99%,用作醫療氣,用於外科設備的消毒,人類用水和遊泳池的淨化,工業（yè）廢品的處理,汙（wū）物消毒;紡織纖維（wéi）、紙漿和糖類的漂白,樟腦的製備,礦物（wù）油及其衍生物的淨（jìng）化（huà）。
155
氰氣-C2N2
>99%,用作焊接與切割耐熱金屬,與氧化劑、臭氧和氟氣混（hún）合後作火箭與導彈推進劑;醫學上作薰蒸劑;用（yòng）於許（xǔ）多有機合成中的媒介物。
156
氯化氰-ClCN
>99%,用於有機合成;與薰蒸氣體相混合可作熱源。
157
氟化氫-HF
>99.9%,用於製備氟化（huà）物（wù）、氟氣;在異構化（huà）、冷凝過程、聚合、幹燥、水解反應等（děng）作為催化劑;在有些有機或無機反應中作為氟化劑。
158
亞硝酰氯-NOCl
>99%,用於有機化合物的重氮化、硝化、氯化作用;也用於石油熟化劑。
159
過氟二氯氧ClO3F
>99%,用於與氟鹵素類相混合,成為火箭發動機的液態氧化劑（jì）;也可供（gòng）街族化合物作選擇（zé）性的氟化劑。
160
碳酰氯-COCl2,(光（guāng）氣（qì）)
>99.9%,用於染料、藥（yào）物、除蕎劑、殺蟲劑、合成泡沫、樹脂和聚合等有機合成;還用作氯化劑。
161
硫酰氟-SOF2
>99.5%,用於製備氟碳（tàn）化合（hé）物;是優（yōu）良的（de）殺蟲薰蒸劑,用於集裝箱、農作物種子、林木種子的薰蒸,倉庫、古建築、園林果木（mù）蛀幹性（xìng）害蟲及白蟻的防治,以及文物檔案的保護;也用作催化劑。
162
羰基鎳（niè）-Ni(CO)4
>99.95%,用於製備高純鎳;製成（chéng）金屬鏡及很薄的鎳箔;是碳化反應中有效的催化（huà）劑。
163
羰基鐵-Fe(CO)5
在有的文獻（xiàn）中（zhōng）寫成Fe(CO)4〕,>99.95%,主要作鐵的載體,在汽油中作抗爆劑。
164
磷酸-H3PO4
>99.99%,用作校正氣;用於製磷酸鹽、甘油磷酸醋、磷酸（suān）按肥料;還作化學試（shì）劑。
165
過氙酸鈉-Na4XeO6·8H2O
>99.99%,強氧化劑,可測定水中汞含量。
166
一氧化碳-CO
>99.995%,用（yòng）作標準氣、校（xiào）正（zhèng）氣、在線儀表標（biāo）準氣;與（yǔ）氫和其它氣體混合作燃（rán）料氣;用（yòng）於從含（hán）有鐵、鑽和銅的礦砂中回收鎳;也可用於製備酸（suān）類、醚類和醇類化（huà）學品。
167
二氧化硫-SO2
>99.99%,用作標（biāo）準氣、校正氣、在線儀表標準（zhǔn）氣;用於啤酒、葡（pú）萄酒、肉類的防腐;硫化物（wù）和（hé）氧硫化物（wù）的製備;油類和食品的漂白劑（jì）;硫化紙漿的製（zhì）備;製冰工業的冷卻劑。
168
二（èr）氧化氮-NO2(N2O4)
>99.9%,用作標（biāo）準氣;用於（yú）一些氧化反應的催化劑;在丙烯酸鹽類精餾時用於防止聚合,用作有機物的硝化劑（jì）、氧化劑、火箭燃料一、麵粉漂白劑。
169
二氟（fú）化氧-OF2
>99.5%,用作氧化劑,是高能火箭（jiàn）推進劑係統中的組成部分（fèn）。
170
三氧化二氮-N2O3
>99.5%,與堿化合生成（chéng）純堿亞（yà）硝酸鹽類;在特殊燃料係統中作氧化劑,也用於萜烯類的鑒定。
171
三氧化氙-XeO3
>99.99%,用於通過氧化還原代替測定氧化溶液的含（hán）量(Xe6→Xe0)。
172
三氧化（huà）硫-SO3
>99.99%,用於化（huà）學工業（yè）中製備硫（liú）酸與發煙（yān）硫酸;是硫化劑;也用於染料工業。
173
三氟化氯-ClF3
>99.5%,用作火箭導彈推進劑,當接觸到燃料時(自發（fā）能力)能使其立刻開始反應;也用作油井管道切割劑,管道深達2公（gōng）裏也可用它來切斷管子。
174
三氟化溴-BrF5
>99.5%,用作氟化劑和電解溶劑;也用於火箭導彈的推進（jìn）劑。
175
四氟（fú）化氮-N2F4
>99.9%,強氧化劑,可製備三氟化（huà）氮。
176
四氟化氙-XeF4
>99.9%,可用於（yú）製備過氙化合物和三氧化氙溶液。
177
五氟化溴-BrF5
>99%,用（yòng）作氟化劑;也用於火箭導彈的推進劑。
178
五氟化氯-ClF5
>99%,強烈（liè）的氧化劑,腐蝕性比三氟化氯小,可製備有機及無機氟化物;可作空間推進器（qì）的助燃劑。
179
五氟化（huà）碘-IF5
>99%,用作氟化劑和燃燒劑。
180
六氟化鉬-MoF5
>99.9%,強烈的氟化劑,也用（yòng）於鑰的（de）載體。
181
六氟化（huà）鉬-MoF5
>99.9%,強（qiáng）烈的氟化劑,也用於鑰的載體。
182
氟三氯甲烷(R11)-CCl3F
>99.95%,用於冷凍工業、空調、溶劑
、滑（huá）冰場、鹽水和海水裝置、煙霧噴射劑、發（fā）泡劑、檢漏、紡織品的幹洗。
183
二氟（fú）二氯甲烷（wán）(R12)-CCl2F2
>99.9%,用作標準氣、校正氣;用（yòng）於低（dī）溫空調、食品貯藏、冷凍工（gōng）業（yè）、煙霧（wù）噴射劑、檢（jiǎn）漏、膨脹（zhàng）劑（jì）、氣相絕緣材料。
184
二氟氯（lǜ）溴甲（jiǎ）烷(R12B1)-CBrClF2
>99.9%,用於（yú）石油、丙酮、二硫化碳生產中及電器著火時的滅火劑。
185
二氟二溴（xiù）甲（jiǎ）烷(R12B2)-CBr2F2
>99.9%,用於快速（sù）聚合;用（yòng）作滅火劑。
186
二氯氟甲（jiǎ）烷(R21)-CHCl2F
>99.9%,用於氣候很熱時的空調（diào）、冷凍（dòng）劑、溶劑、煙霧噴射劑、化學媒介物（wù）。
187
二氟氯甲烷(R22)-CHCiF2
>99.9%,用於冷卻和空調;在低溫噴（pēn）霧（wù）特
殊情況下作煙霧噴射劑;氟化聚（jù）合物的生產和檢漏。
188
二氟（fú）甲烷(R32)-CH2F2
>99%,用作冷凍劑,與五氟氯乙烷(R115)混（hún）合後形（xíng）成共沸混合物的冷凍劑。
189
氯甲烷（wán）(R40)–CH3Cl
>99.5%,用作冷（lěng）凍劑,局部麻醉處理;氣溶膠工業中（zhōng）當作（zuò）噴（pēn）射氣體;有機合（hé）成中（zhōng）用作甲（jiǎ）基劑;作溶劑或萃取（qǔ）劑。
190
溴甲烷（wán）(R40B1)-CH3Br
>99.9%,用於有機合成(著（zhe）色劑)中甲基劑（jì）;低溫溶劑、冷凍劑;土壤與（yǔ）種子的薰蒸劑。
191
氟甲烷(R41)-CH3F
>99.9%,以混合物用作非燃燒性的煙霧噴射劑。
192
l,1,2,-三氯（lǜ）三氟乙烷(R113)-C2Cl2F3,(俗稱（chēng）TTE)
>99.9%,用作冷（lěng）凍劑、傳熱介質;製備三氟（fú）氯乙烯（xī）(R1113)的中間（jiān）媒介物。
193
1,2-二氯四氟乙烷(R114)-C2Cl2F4
>99%,用作冷凍、冷卻、空調,單（dān）獨與二氟二氯甲烷(R12)混合作為化妝品煙霧噴射劑。
194
1,2-二嗅四氟乙烷(R114B2)-C2Br2F4
>99.5%,用作（zuò）溶劑（jì）、滅（miè）火劑,與其它氟碳化合物相混合作噴射劑。
195
五氟氯乙烷(R115)-C2ClF5
>99.9%,用作冷凍劑、煙（yān）霧噴射劑。
196
二氟氯乙烷(R142B)-C2H3ClF2
>99%,用作冷凍劑、溶劑（jì）、與非燃燒性的鹵碳類化合（hé）物相混合作噴射劑。
197
三氟乙烷(R143)-C2H3F3
>99.9%,用作冷凍劑。
198
1,1-二（èr）氟乙烷(R152A)-C2H4F2
>99%,用（yòng）作冷凍（dòng）劑、煙霧噴射劑（jì）、有機合成中間媒介（jiè）物（wù）。
199
氯乙烷(R160)-C2H3Cl
>99.9%,用於局部麻醉的醫（yī）療處（chù）理,外科和皮膚科的噴霧醫療;在染料工業中當作乙基劑、冷凍劑、溶劑、殺蟲劑（jì）的生產。
200
氟乙烷(R161)-C2H5F
>99.9%,用於合成中間媒介物。
201
R-12與R152A共沸混合物(R500)-CCl2F2/C2HF5
>99.9%,用作（zuò）冷凍劑、空調。
202
R-22與R115共沸混合物(R502)-CHClF2/C2H4F2
>99.9%,用作冷凍（dòng）劑、空調、噴（pēn）霧。
203
R-23與（yǔ）R13共沸混（hún）合物(R503)-CClF3/CHF3
>99.9%,用作冷凍（dòng）劑、空調。
204
全氟丁烷(R601)-C4F10
>99%,用作（zuò）絕緣氣體。
205
三氟氯乙烯(R1113)-C2ClF3
>99%,用於製備（bèi）潤滑（huá）脂、油類、
蠟類、塑料的（de）聚合（hé）劑,聚三（sān）氟氯乙烯的單體（tǐ）。
206
三氟溴乙烯(R113B1)-C2BrF3
>99%,用於聚合反應和化學中間體。
207
二氟氯乙烯(R1122)-C2HClF2
＞99.9%,用於化學合成中間體。
208
1,1-二氟乙（yǐ）烷(R1132A)C2H2F2
>99%,是一（yī）個很重要的單體,用於生產塑（sù）料及彈性（xìng）體。
209
氯乙（yǐ）烯(R1140)-C2H3Cl
>99.9%,用作標準氣（qì）;用作聚合劑、有機合成的中間體。
210
氟乙烯(R1140)-C2H3F
>99.9%,用作聚合劑、有機合成的中間體。
211
氦-3–He3
>99.99%,充計數管;作稀釋製冷機超低溫冷源,可達4.5×10-3K。
212
氦-4-He4
>99.99%,在空間應用的低溫火箭（jiàn）燃料、核反應堆（duī）中重水及所有常溫與低溫的液體（tǐ）均可（kě）用氦-4作壓送氣。
213
氘-D2
>99.95%,在核工業（yè）研（yán）究中應用在氖核加速器中作為（wéi）拋射體;當放射丫能射線時作（zuò）為中子源;在研究化學反應時,包括氫化合物,可作（zuò）為軌（guǐ）跡用;用於生產重水(D2O)。
214
氚-T2
>99.95%,用（yòng）作標（biāo）準氣,控製每升為1000微居裏,有很廣泛的（de）活潑性,與氖氬混合作為載氣,可用（yòng）於檢測微量氮氣及其它（tā）稀有（yǒu）氣體。’
215
氧-18-O218
>99%,可（kě）製備H218O、D218O、S18O2。
216
氮-15-N215
>99%,可製備15NH3、16NO、15NO等。
217
氬-36–Ar36
>99.99%,計量值用。
218
氬-40-Ar40
>99.99%,計量值用。
219
氖-20Ne20
>99.99%,計量值用。
220
氖-22Ne22
>99.99%,計量（liàng）值（zhí）用。
221
氪-85-Kr85
>99.99%,標準（zhǔn）氣,控製（zhì）每升（shēng）為10微居裏,充燈泡用。
222
氪-86-Kr86
>99.9%用作標（biāo）準氣。
223
氙-133-Xe133
>99.9%,充燈泡用。
224
碳-13-C13
>99%,可製備13CO2、13C6H8、13CO、13COS、13C2H4等。
225
碳-14-C14
>99%,用作標準（zhǔn）氣,控製每升為100微（wēi）居裏。
226
碳（tàn）-18-C18
>99.99%,可製備C18O2、C18O。
227
硫-35-S35
>99%,用作標準氣,控製每（měi）升為100微居裏。
228
二甲基鎘-(CH3)2Cd
純度＞99.999%,電子氣,用於MOCVD。
229
二乙基鎘-(C2H5)2Cd
>99.999%,電子氣,用（yòng）於MOCVDo
230
四甲基錫-(CH3)4Sn
>99.999%,電子氣,用於（yú）MOCVD。
231
四乙基錫-(C2H5)Sn
>99.999%,電子氣（qì）,_用於MOCVD。
232
三（sān）甲基砷-(CH3)3As
>99.999%,電子氣,用於MOCVD。
233
三（sān）乙（yǐ）基砷-(C2H5)3As
>99.999%,電子氣,用於MOCVD。
234
三乙（yǐ）基銻-(C2H5)3Sb
>99.999%,電子氣,用於MOCVD。
235
二乙基銦-(C2H5)2ln
>99.9999%,電子（zǐ）氣,用於（yú）MOCVD。
236
二甲基銦-(CH3)2In,)
99.9999%,電子氣,用於MOCVD。
237
二乙基（jī）鎂-(C2H5)2Mg
>99.999%,電子氣,用（yòng）於MOCVD。
238
二甲基汞-(CH3)2Hg
>99.999%,電子氣,用於MOCVD。
239
二乙基汞-(C2H5)2Hg
>99.999%,電子氣（qì）,用（yòng）於MOCVD。
240
三（sān）甲基磷-(CH3)3P
>99.999%,電（diàn）子氣,用於MOCVD。
241
三乙基磷-(C2H5)3P
>99.999%,電子氣,用於MOCVD。
422
三異丁基鋁-(i-C4H9)3AI
＞99.9999%,電子氣,用於MOCVD。
243
丙矽烷-Si3H8
>99%,電子氣,用於CVD。
244
三氯（lǜ）化鋁（lǚ）-AlCl3
>99.999%,電子氣,用於外延。
245
五氟化鉭-TaF5
>99.9%,電子氣（qì）,用於離子注入。
246
五氟化（huà）鉈-TlF5
>99.9%,電（diàn）子氣,用於離子注入。
247
氯乙烯-C2H3Cl
99.9%,校正氣（qì）,用作冷凍劑。
248
氟乙烯-C2H3F
>99.9%,校（xiào）正氣,用於製聚乙烯樹脂和其它單體的共聚物。
10種電子氣
1.三氯甲烷-CHCl3,>99.9%,用於等（děng）離子幹刻。
2.三氯乙烷-C2HCl3,>99.9%,用於熱氧化。
3.二甲基二氯矽烷-(CH3)2SiHCl2,>96%,用於外延、化學氣相澱（diàn）積。
4.二甲基氯矽烷-(CH3)2SiHCl,>96%,用於（yú）外延、化學氣相澱積。
5.三（sān）甲基氯矽烷-(CH3)3SiCl,>95%,用於外延、化學氣相澱積。
6.二氟四（sì）氯乙烷-C2Cl4F2,>99.9%,用於（yú）等離子幹刻。
7.六氟化矽-SiF2,>99.9%,用於等（děng）離子幹刻。
8.八氟甲烷-CF8,>99.9%,用於等離子幹（gàn）刻（kè）。
9.異十氟丁（dīng）烷-i-C4F10,>99.9%,用於等離子幹刻。
10.十（shí）二氟乙烷-C2F12,>99.9%,用（yòng）於等離子幹刻。
2種有機氣體
1.乙烯基甲基醚-C3H3O,>99.5%。 2.乙烯（xī）基乙炔-CH2CHC2H,>50%。