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電子特氣(qì)櫃對等離子刻蝕氣體三氟化氮(NF3)的作用

來源: 更新:2021-01-27 18:59:08 作者: 瀏覽:3430次

三氟化氮(NF3),在微電子工業中是一種優良的等(děng)離(lí)子蝕刻氣(qì)體,隨著(zhe)納米技(jì)術(shù)和電子工業的飛速發(fā)展,其需求量也在日(rì)益增加。高純三氟化氮(NF3)屬於電(diàn)子特(tè)氣(qì),毒性較強(qiáng),人體直接接觸(chù)會有很大的危險,這時,便需要電子特氣(qì)櫃這樣的(de)特種(zhǒng)氣體設備來保證氣體的純度和使用安全。

什麽是(shì)三氟化(huà)氮?

三氟(fú)化氮(nitrogen trifluoride)化學式NF₃,在常溫下是一(yī)種無色、無(wú)臭、性質(zhì)穩定的氣體(tǐ),是一種強氧化劑。NF3是低毒性物質,但是它(tā)能強烈刺激(jī)眼睛、皮膚和呼吸道粘膜,腐蝕組織(zhī),研究表明:大(dà)鼠吸入1000ppm·l小時未見死亡,但出現(xiàn)高鐵血紅蛋白血症,當吸(xī)入10000ppm·l小時有死亡,在(zài)2500ppm時吸毒(dú)後4小時(shí)死亡(wáng)。要知道(dào)在微電子行業刻蝕工藝中,所使用的NF3是儲(chǔ)存在氣體鋼瓶中的高純度壓縮(suō)氣(qì)體。

 

三氟化氮的應用領域:
高純三氟化氮(NF3)具有非常優異的蝕刻速率和選擇性(對氧化(huà)矽和矽),它在被蝕刻物表麵不留任何殘留物,同時是非常良好的清(qīng)洗劑。三氟化氮主要用於化學氣相澱積(CVD)裝置的清洗,同時在芯片製造、高能激光器方(fāng)麵得到了大量的運用。
三氟化氮可以單獨或與其它氣(qì)體組合,用(yòng)作等離子體工藝的蝕刻氣體,例如,NF3、NF3/Ar、NF3/He用(yòng)於矽(guī)化合物(wù)MoSi2的蝕刻;NF3/CCl4、NF3/HCl既用於MoSi2的(de)蝕刻,也用於NbSi2的蝕刻。

 

電子特氣櫃的功能作用:

電子特氣櫃(guì)是(shì)專(zhuān)為易燃易爆、毒性、腐蝕性等危險性氣體供應而設(shè)計的特種氣體係統設備,按類別(bié)可分為全自動、半自動和手(shǒu)動操作,有包括自動吹掃、自動切換以(yǐ)及緊急情況下的自動安全切斷(當設定(dìng)報警信號被觸發時)等基本功能。

其中全自動(dòng)電子特氣(qì)櫃采用(yòng)PLC為控製(zhì)主體,以觸(chù)摸屏(píng)進行係統顯示和設定,配合合理設計布局的高純閥件及氣體監測泄漏報(bào)警係統等,可保持氣體的安全穩定及高純度,保證實驗(yàn)或生產(chǎn)正常進行。

 

綜上,三(sān)氟化氮(NF3)是微電子行業中一種優良的等離子刻蝕氣體(tǐ),是(shì)一種對人體有(yǒu)很(hěn)大(dà)危險性的電子特氣,電子特氣櫃的作用是可以保證三氟化氮(NF3)氣體的運(yùn)輸安全、使用安全、氣體(tǐ)的純度和提供連續穩(wěn)定的氣體(tǐ)壓力。感謝您的閱讀!

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