【低溫裝備】別說你懂特氣，260種特氣用途你都（dōu）知道嘛？

【低溫裝備】260種特種氣體
260種單元高純特種氣體的用途
1
氮氣（qì）-N2
純度要求>99.999%,用作標準（zhǔn）氣、在線儀表（biǎo）標準氣（qì）、校正氣、零點氣、平（píng）衡氣；用於半導（dǎo）體器件製備（bèi）工藝中外延、擴散、化學氣相澱積、離子注（zhù）入、等離子幹刻（kè）、光刻、退火、搭接、燒結（jié）等工序；電器、食品包裝、化學等工業也要用氮氣。
2
氧氣-O2
>99.995%,用作標準氣在（zài）線儀表標準氣、校正氣（qì）、零點氣；還可用於醫療氣；在半導體器件製備工藝中用於熱氧化、擴散、化學氣相澱積、等（děng）離子幹刻等工序；以及用於光（guāng）導纖維的製備。
3
氬氣-Ar
>99.999,用作標準（zhǔn）氣、零（líng）點氣、平衡氣；用於半導體器件（jiàn）製備工藝中晶（jīng）體生長、熱氧化、外延、擴散、氮化（huà）、噴射、等離子幹刻、載流、退火、搭接、燒結等工序；特種混合氣與工業混合氣也使用氫。
4
氫氣-H2
>99.999%,用作標準氣、零點氣、平衡氣、校正氣、在線儀表標準氣；在半（bàn）導體器件製備工藝（yì）中用於晶休生長、熱氧化、外延、擴散、多晶矽、鎢化、離子注入、載（zǎi）流、燒結（jié）等工序；在化學、冶金等工業中（zhōng）也有用。
5
氦氣-He
>99.999%,用作標（biāo）準氣、零（líng）點氣、平衡（héng）氣、校（xiào）正氣、醫療（liáo）氣；於半導體器件製備（bèi）工藝中晶體生長、等離子幹（gàn）刻、載流等工序；另外,特種混（hún）合氣與（yǔ）工業混合氣也常用。
6
氯氣-Cl2
>99.96%,用作標準氣、校正氣；用於（yú）半導體器件製備工（gōng）藝中晶體（tǐ）生（shēng）長（zhǎng）、等離（lí）子幹（gàn）刻、熱氧化等工序；另外,用於水淨化、紙漿與紡織品的漂白、下業廢品、汙水、遊泳池的衛生處理；製備許多化學產品。
7
氟氣-F2
>98%,用於半導體器件製備工藝中等離子幹（gàn）刻；另外,用於製備六氟化鈾、六氟化硫、三氟化硼（péng）和金屬氟化物等。
8
氨氣-NH3
>99.995%,用（yòng）作標準氣、校正氣、在線儀表標準氣；用（yòng）於半導體器件製備工藝中氮化工序；另外,用於製冷、化肥、石油、采礦、橡膠等工業。
9
氯化氫-HCI
>99.995%,用作標準氣；用於半導體器件製（zhì）備工藝中外延、熱氧（yǎng）化、擴散等（děng）工序；另外,用於橡膠氯氫化反應中的（de）化學中間體、生產乙烯基和烷基（jī）氯（lǜ）化物時起氧氯化作用。
10
一氧化氮-NO
>99%,用作標（biāo）準氣、校正氣；用於半導體器件製備工（gōng）藝中化學氣相澱積主序（xù）；製備監控大氣汙染的標準混合氣。
11
二氧化碳-CO2
>99.99%,用作標準氣、在線儀表標推氣、校正氣；於半導（dǎo）體器件製備（bèi）工藝中氧化、載流（liú）工序（xù）警（jǐng）另外,還用於特種混合氣、發電、氣體置換處理、殺菌氣體（tǐ）稀釋劑、滅火劑（jì）、食品冷凍、金屬冷處理、飲料充氣、煙霧噴（pēn）射劑、食品貯存保護氣等（děng）。
12
氧化亞氮-N2O,(即笑氣)
>99.999%,用作標準氣、醫療氣；用於（yú）半（bàn）導體器件製備（bèi）工（gōng）藝中化學氣相（xiàng）澱積、醫月麻醉劑、煙霧噴射劑、真空和帶壓檢漏；紅外（wài）光（guāng）譜分析儀等也用。
13
硫化氫-H2S
>99.999%,用作標準（zhǔn）氣、校正氣；用於半（bàn）導體器件製備工藝中等離子幹刻,化學（xué）工業中用於製備硫化物,如硫化鈉,硫（liú）化有機物；用作溶劑；實驗室（shì）定量分析用。
14
四氯化碳-CCl4
>99.99%,用作標（biāo）準氣；用於（yú）半導體器件製備工藝中外延丫、化學氣相（xiàng）澱積等工序；另外,用作溶劑、有機物的氯（lǜ）化劑、香料的浸出劑、纖維的脫脂（zhī）劑（jì）、滅火劑、分析試劑、製備（bèi）氯仿和藥物等。
15
氰化氫-HCN
>99.9,用於半導體器件製備工藝中等離子幹刻工序；製備（bèi）氫氰酸溶（róng）液（yè）,金屬（shǔ）氰（qíng）化物、氰氯化（huà）物；也用於製備丙（bǐng）烯睛和丙烯（xī）衍生物的（de）合成中間體。
16
碳酰氟-COF2
>99.99%,用於半尋體器件製（zhì）備工藝中等離（lí）子幹刻工序；另外,用作氟化劑。
17
碳酰硫-COS
>99.99%,用作校正氣；用於半導體器件（jiàn）製備工藝中離子注入工序（xù）；也用於有些羧基、硫代酸、硫代碳酸鹽和（hé）噻（sāi）唑的合成。
18
碘化氫-HI
>99.95%,用於半導體器件製備工藝（yì）中離子注入工序（xù）；還用於（yú）氫碘酸溶液製備。
19
嗅化氫-HBr
>99.9%,用於半導體製備工藝中等離子幹刻工序；用（yòng）作還原劑,製備有機及無機澳化（huà）合物。
20
矽（guī）烷-SiH4
>99.999%,電阻（zǔ）率>100Ω/cm2,用於半導體器件製備工藝中外延、化（huà）學氣相澱積等工序。
21
乙矽烷-Si2H6
>99.9%,用（yòng）於半導體製備工藝中化學氣（qì）相澱積。
22
磷烷-PH3
>99.999%,用於半導體器（qì）件製備工藝中外延、擴散、化學氣（qì）相澱（diàn）積、離子注入等工序；磷烷與二氧化碳（tàn）混合的低濃度氣體,可用於殺死糧倉的蟲卵（luǎn）和製備阻火化（huà）合物。
23
砷烷-AsH3
>99.999%,用（yòng）於半導體器件製備（bèi）工藝中（zhōng）外延、擴散、化學氣相澱積、離子注入等工序。
24
硼烷-B2H6
>99.995%,用於半導體器件製備工（gōng）藝中外延（yán）、擴（kuò）散、氧化等工序；用於有些化學（xué）工業合成過程（chéng）:如氫硼化反應(即生成醇類),有機功能的衰退,製備較高的硼烷衍生物和碳甲硼（péng）烷化合物。
25
鍺烷-GeH4
>99.999%,用於半導體器件製備（bèi）工藝（yì）中外延、離子注入工序。
26
銻烷-SbH3
>99.999%,用於（yú）半導體器件製備工藝中外延、離子注入工（gōng）序。
27
四氧甲矽烷（wán）-Si(OC2H5)4
>99.99%,用於半導體器件製（zhì）備工藝中化學氣相澱積（jī）工序。
28
乙（yǐ）烷-C2H6
>99.99%,用作標準氣、校正氣、在線儀表（biǎo）標準氣；用於半導體器件製備工藝中等離子幹刻工（gōng）序；還用於冶金工業的熱處理,化學工業中製備乙醇、氧化乙二醇、氯乙烯（xī）、高醇類、乙醛等。
29
丙烷-C3H8
>99.99%,用作標準氣、校正氣、在線儀表標準氣；用於（yú）半導體器件製備工藝中等離子（zǐ）幹刻（kè）工序；另外,用於燃料（liào）、冷凍劑、製備乙烯與丙烯的原料。
30
硒化氫-H2Se
>99.999%,用於半導體器件製備工（gōng）藝中（zhōng）擴散、離（lí）子注（zhù）入工（gōng）序。
31
碲化氫-H2Te
>99,999%,用於半導體器件製備（bèi）工（gōng）藝中擴散、離子注入工序。
32
二氯二氫矽-SiH2Cl2
>99.999%,用於半導體器件製備工藝中外延、化學氣相澱積工序。
33
三氯氫矽-SiHCl3
>99.999%,用於半導體器件製備工藝中（zhōng）外（wài）延、化學氣相澱積工序。
34
二甲（jiǎ）基碲-(CH3)2Te
>99.999%,用於（yú）半導體器件製備工藝中擴散（sàn）、離子（zǐ）注入（rù）工序。
35
二乙基（jī）碲-(C2H5)2Te
>99.999%,用於半導體器件製備工藝中擴（kuò）散、離子注入工序。
36
二甲（jiǎ）基鋅（xīn）(CH5)2Zn
>99.999%,用於半導體器件製備（bèi）工藝中化學（xué）氣相澱積工序。
37
二乙基（jī）鋅(C2H5)2Zn
>99.999%,用於半導體器（qì）件製備工藝中化學氣相澱積工序。
38
三氯化磷-PCl3
>99.99%,用於（yú）半導體器件製備工藝中擴散,鍺的外延生長和離子注入工藝；PCl3是有（yǒu）機物的良好氯化劑；也用於含磷有機物的合成。
39
三氯化砷-AsCl3
>99.99%,用於半導體器件（jiàn）製備工藝中的外延和離子（zǐ）注入。
40
三氯化硼-BCl3
>99.99%,用（yòng）於等離（lí）子幹刻、擴散；作硼載氣及一些有機反（fǎn）應的催化劑；精煉鎂、鋅、鋁、銅合金時（shí）從溶化金（jīn）屬中除掉氮、碳、氧化合物。
41
四氯化矽-SiCl4
>99.999%,用於半導體器件製備工藝中（zhōng）外延、化學氣相澱積工序（xù）。
42
四氯（lǜ）化錫-SnCl4
>99.99%,用於外延、離子注入。
43
四氯化鍺-GeCl4
>99.999%,用於離子注入。
44
四氯化欽-TiCl4
>99.99%,用於等離子幹刻。
45
五（wǔ）氯化磷-PCl5
>99.99%,用於外延、離子注入（rù）。
46
五氯化銻（tī）-Sb=Cl5
>99.99%,用（yòng）於外延、離子注入。
47
六（liù）氯化（huà）鑰-MoCl6
>99.9%,用於化學氣相澱積。
48
三嗅化硼-BBr3
>99.99%,用於半（bàn）導體器件製備工藝（yì）中離（lí）子注入工序和製備光導纖維。
49
三嗅化磷-PBr3
>99.99%,用於（yú）外延、離子注入。
50
磷酞（tài）氯-POCI3
>99.999%,用（yòng）於擴（kuò）散工序。
51
三氟化硼-BF3
>99.99%,用於離子注入；另外,可作載氣、某些有機反應的催化劑；精煉鎂、鋅、鋁、銅合金時從熔化金屬中除掉氮、氧（yǎng）、碳化物。
52
三氟化（huà）磷-PF3
>99%,用於外延、離子注入工序；另外用（yòng）作氟化劑。
53
三氟化砷-AsF3
>99%,用於外延、離子注入工序（xù）；另外用作氟化劑。
54
二氟化氨-XeF2
>99.9%,用於外延、離子注入工序；用於固定模具氨的考察及原子反應堆（duī）排放（fàng）廢氣中氮的測定。
55
三氟氯甲烷-CClF3,(R-13)
>99.995%,用於等離子幹刻（kè）工序；冷凍劑、空（kōng）調均可用。
56
三氟甲烷-CHF3,(R-23)
>99.999%,用於等（děng）離子（zǐ）幹刻工序;低溫冷凍劑。
57
三氟（fú）化氮-NF3
>99.99%,用於等離子幹刻工序;火箭推進劑、氟化劑。
58
三氟嗅甲烷-CBrF3,(R13B1)
>99.99%,用於（yú）等離子幹刻（kè）工序;還用於空調、低溫冷凍及滅火劑。
59
三氟化（huà）硼-11-B11F3
>99.99%,用於離子注入工（gōng）序(天然硼的同位（wèi）素,含11B8l%,10B19%。出售的11B是濃縮含有（yǒu）96%同位素BF3);還用於製備光導纖維。
60
四氟化碳（tàn）-CF4,(R-14)
>99.99%,用（yòng）於等離子幹刻工序;在很低溫度下作（zuò）為（wéi）低溫流體用;也用（yòng）於中性及惰（duò）性氣體。
61
四氟化硫-SF4
>98%,用於等離子幹（gàn）刻工序;氟化劑、表麵處理劑。
62
四氟化（huà）矽-SiF4
>99.99%,用（yòng）於化學氣相澱積工序;製備氟矽酸及其鹽類。
63
四氟化鍺-GeF4
>99.999%,用於離子注入工序。
64
五氟化磷-PF5
>99.9%,用於（yú）離子注入、等離子幹刻工序;另外,用作氟化劑,聚合、烴化及脫（tuō）烴化反（fǎn）應、烴（tīng）類裂化反應時作催化劑。
65
五氟氯乙烷-C2ClF6,(R-115)
>99.99%,用於（yú）等離子幹刻工序;另外（wài）,作冷凍劑、煙霧噴氣劑（jì）。
66
五氟（fú）化砷-AsF5
>99%,用於外延、離子注入（rù）工（gōng）序,氟化劑。
67
六氟乙烷-C2F6,(R-116)
>99.99%,用於等離子幹刻工（gōng）序;用作（zuò）冷卻、冷凍劑和空調;單體（tǐ）生（shēng）產（chǎn）的（de）原料;化學反應中的添氟劑、電器設備的（de）絕（jué）緣劑（jì）。
68
六氟化硫-SF6
>99.99%,用作標準氣;用於化學氣相澱積工序;由於在高電壓下具有很高的電阻,用作電器設備的（de）絕緣劑（jì）;檢漏氣體,實驗室中作色譜儀的載氣（qì）。
69
六氟化鎢-WF6
>99.99%,用於化學氣相澱積工序;強烈的氟（fú）化劑;也用（yòng）作鎢載體。
70
六（liù）氟化氧-(CF3)2O2
>99.99%,用於（yú）等離子幹刻工序。
71
六氟乙酰-(CF3)2CO
>99.99%,用於等離子幹刻工序。
72
六氟乙酞氧-(CF3CO)2O
>99.99%,用於（yú）等（děng）離子幹刻（kè）工序。
73
六（liù）氟化錸-ReF6
>97%,用於離子注入工序;氟化劑。
74
八氟丙烷-C3F8,(R-218)
>99.9%,用於等離子幹刻工序;與氟利昂相混合作（zuò）冷凍劑;高壓電的絕緣劑。
75
八氟環丁烷-C4F8,(RC318)
>99.99%,用於等離子幹刻工（gōng）序;用作冷卻劑、冷凍劑（jì）;作電器和電子設備的氣體絕緣。
76
十二氟戊烷-C5F12
>99.9%,用於等（děng）離子幹刻工序;也可與（yǔ）CF4相混用。
77
三甲基鋁-(CH3)3Al
>99.999%,用於化學氣（qì）相澱（diàn）積工序;金（jīn）屬的有機合（hé）成。
78
三甲基镓（jiā）-(CH3)3Ga
>99.999%,用於化學氣相澱積工序;金屬的有機合成。
79
三甲基銻-(CH3)3Sb
>99.999%,用於化學氣相澱積工序;金屬的有機（jī）合成。
80
三甲基錮-(CH3)3In
>99.999%,用於化學氣相澱積工序;金屬的有機合成。
81
三乙基鋁-(C2H5)3Al
>99.999%,用於化學氣相澱積工（gōng）序;金屬的有機合成。
82
三乙基（jī）镓-(C2H5)3Ga
>99.999%,用於化學氣相澱積工（gōng）序;金屬的有機合成。
83
四乙基鉛-(C2H5)4Pb
>99.999%,用於化學氣相澱積工序。
84
丙烯腈（jīng）-C3H3N
>99.9%,用於等離子幹刻工序。
85
1,1,2-三氯乙烯-C2HCl3
>99.99%,用作標準氣、校正氣、醫療氣;用（yòng）於（yú）半導體器件製備工藝中熱氧化工序;另外（wài）,用於金屬的脫脂劑和脂肪、油、石蠟等萃取劑,衣服幹洗,冷（lěng）凍劑,殺菌劑。
86
甲烷-CH4
99.999%,用（yòng）作標準氣、校正氣、在線儀（yí）表標準氣;作燃料、宇宙飛（fēi）船中氣體電池。
87
甲烷硫醇-CH3SH
>99.5%,用作標準（zhǔn）氣、校正氣;用於有（yǒu）機合成;作為噴氣燃料添加劑,殺真菌劑和蛋氨酸的中間體。
88
一甲胺-CH3NH2
99%,用於硫化（huà）促進劑、藥物、染料和炸藥等,並作溶劑、有機合（hé）成、醋酸人造纖維。
89
甲醇-CH3OH
>99.9%,用作標準氣,與空氣混合後作（zuò）校正氣;用於製（zhì）備甲醛和農藥鄉用於有機物質（zhì）的萃取劑和酒精的變性劑。
90
二甲胺-(CH3)2NH
>99%,用作抗氧化劑;在溶液中作浮洗.劑、汽油穩（wěn）定劑、橡膠加速劑等。
91
二甲醚（mí）-(CH3)2O
>99.9%,在化學工（gōng）業中（zhōng）用（yòng）作配製合成橡膠和甲硫醚;用（yòng）作甲基劑、萃取劑、溶劑;也用作製冷劑。
92
乙炔-C2H2
>99.9%,用作標（biāo）準氣、校（xiào）正氣;化學工業中的中間體,如製備乙烯、乙醛（quán）、醋酸乙（yǐ）烯、氯（lǜ）乙烯、乙烯醚等;用於原子吸收光譜。
93
乙烯-C2H4
>99.99%,用作在線儀表（biǎo）標（biāo）準氣、標準氣（qì）、校正氣;是化（huà）學工（gōng）業合成中的重要原料,生產塑料的中間體,生產乙醇、醋酸（suān）、氧化乙烯、氯乙（yǐ）烯、乙苯等的原料;也用於焊接和切割、冷凍劑、某些水果、蔬菜生長的加速劑。
94
氧化乙烯-C2H4O
99.9%,用（yòng）作標準氣、校正氣、醫療氣;與CO2、R11、R21相混（hún）合作消毒劑,文物保管,皮革（gé）消毒（dú）,清洗衣料均可（kě）采用;化學工業（yè）中用作中間體,生（shēng）產液體或固體聚乙二醇（chún）、乙（yǐ）醇胺類等。
95
溴代乙烯（xī）-C2H3Br
>99.9%,用作有機合成的中間體,用聚合法（fǎ）與（yǔ）共聚法來製（zhì）備塑料。
96
一乙胺-CH3CH2NH2
>99%,水溶液（yè）中含（hán）有70%乙胺,作為下列化學（xué）工業製備中的中間體:著（zhe）色劑,電鍍池、硫化增速劑等;還用（yòng）於製藥、表麵活性劑、萃（cuì）取劑。
97
四氟乙烯（xī）-C2F4
>99%,在生產塑（sù）料（liào）時作為一種重要的單體,如泰氟隆等。
98
乙醛-CH5CHO
>99.9%,用作校正氣;用於（yú）製（zhì）備酷酸、醋醉（zuì）、醋酸乙酷、正（zhèng）丁醇、合成樹脂等。
99
二甲基二硫醚-CH3S2CH3
＞99.9%,用作校正氣、溶劑。
100
二甲基硫醚（mí）-CH3SCH3
>99.9%,用作（zuò）校正氣、溶劑。
101
乙醇-C2H5OH
>99.9%,用作校正氣;用於溶劑（jì）,製備染料、塗料、藥（yào）物、合成橡（xiàng）膠等。
102
乙酰氯-CH3COCl
99.99%,用於乙酰化劑和化學試製（zhì）。
103
1-羥亞乙基-1,1雙磷（lín）酸-C2H8P2O7,>99.99%,簡稱HEDPA
用於（yú）特殊的洗滌（dí）、紡織漂白分離劑、磨料和環境衛生;在石油和氣田中用作防腐劑。
104
環丙烷-(CH2)3
>99%,用於有機合成;醫藥（yào）上作麻醉劑。
105
甲基乙炔-C3H4
>99%,用（yòng）作在線儀表標準氣、校正氣;用於製備丙酮（tóng）;化（huà）學工業中作合成中間體。
106
六氟丙酮-CF3COCF3
>99.9%,是強烈的反應氣,常與脂肪酮發（fā）生化學反應,用這些酮類可製備不（bú）同的產（chǎn）品（pǐn）,如穩定的液體、溶劑、水泥、單體（tǐ）、共聚物,以（yǐ）及農業及藥物產品。
107
三甲（jiǎ）胺-(CH3)3N
>99%,用作標（biāo）準氣,溶液中含25%的三甲胺可作抗組胺治療（liáo）處理;在化學工業中作中間體,用來生產殺蟲劑、潤（rùn）濕劑、發泡劑、合成（chéng）樹脂等表麵活性劑。
108
丙烯-C3H8
>99.9%,用作標準（zhǔn）氣、校正氣（qì）、在線儀表標準氣;在化學工業上用作製備異丙（bǐng）醇、氧化丙烯、氧基醇類、四氯化碳（tàn）、聚丙烯（xī）等。
109
丙（bǐng）二烯-C3H4
99%,在（zài）線儀表標（biāo）準氣;用於有機合成中間體。
110
氧化丙烯-C3H6O
>99.9%,(又稱1,2-環氧丙烷),用於製備丙二醇和泡沫（mò）塑料;也是醋酸纖維素、硝酸纖維素和（hé）樹脂等的溶（róng）劑。
111
甲基乙烯醚-CH3COCH3
>99.5%,用作標準氣;用於有機合成中間體;塑料和合成樹脂製備時的原料及共聚物的（de）生產。
112
六氟丙烯-C3F6
>99.9%,用於有機合成中間體。
113
丙酰氯-CH3CH2COCl
＞99.9%,用於製備鹽酸、丙酸（suān）;用作氧化劑。
114
正丁烷-C4H10
>99.99%,用作標（biāo）準氣、校正氣;用作燃料,商業上主要和異丁（dīng）烷混合用;化學工業中作製備中間體:乙烯、丙烯、丁烯等;作煙霧噴射劑;充入溫度（dù）計球作標（biāo）準蒸汽壓型的（de）壓力表;與氦混合用作電離（lí）粒子（zǐ）計算器。
115
異丁烷（wán）-iC4H10
>99.99%,用（yòng）作標準氣、校正氣;用作燃料,商業上主要和異（yì）丁烷混合用;化學工業中（zhōng）作（zuò）製備中間體:乙烯、丙（bǐng）烯、丁烯等;作煙霧噴射劑;充入溫度計球（qiú）作標準蒸汽壓型的壓力表（biǎo）;與氦混合用作（zuò）電離粒子計算器。
116
乙基乙炔C4H5
>99%,用作標準氣、校正氣;化學工業中作為合成中間體。
117
環丁烷-(CH2)4
>99%,作為液體溶劑,或與其它溶劑混合使用;也可作為合成中間體。
118
丁烯-1-C4H8
>99.9%,用作標準氣、校正氣;用於有機化合物的製備中間體;催（cuī）化脫氫生成丁二烯。
119
順丁烯-2C4H8
>99%,用作（zuò）標準氣、校正（zhèng）氣;用於有機化合物的製備中間體;催化（huà）脫氫生成丁二烯、酸式硫酸鹽,加水生成丁醇-2等;也可用作溶（róng）劑。
120
反丁烯-2-C4H8
>99%,用（yòng）作標（biāo）準氣、校正氣;用於有機化合物的製備（bèi）中間體;催化脫（tuō）氫生成丁二烯（xī）、酸式硫酸鹽,加水生（shēng）成丁醇-2等（děng）;也可用作（zuò）溶劑（jì）。
121
順與反丁烯-2-C4H8
>99%,用作校正氣;用途同（tóng）(119)。塑料和樹脂,生產尼龍-6;也是火（huǒ）箭燃料組成部分。
122
1,3丁二烯-C4H6
>99%,用作校正氣;用聚合法和共聚法來生產合成橡膠、塑料和樹脂,生產尼龍-66;也是火箭燃料組成部（bù）分
123
異丁烯-iC4H8
>99.9%,用作校正（zhèng）氣,用（yòng）於有機中間體,使氧化產生丙酮和甲酸,在液相或氣相中催化使生（shēng）成雙異丁烯等;也可用來製備合成（chéng）橡膠,有很高的耐酸堿度;是良（liáng）好的絕緣體。
124
八氟-2-丁烯-C4H8(全氟丁烯)
>99.5%,用於有機合成中間體。
125
二甲乙基胺-(CH3)2NC2H5
99.99%,一接觸到氧（yǎng）化劑（jì）,反應劇（jù）烈;與二氧化碳混合,遇到汞會產生爆炸反應。
126
正戊烷-C5H12
>99%,用作（zuò）標準氣、校正氣;作溶劑及合成（chéng）中間體。
127
異戊烷-iC5H12
>99%,用作標準氣、校正氣;作溶劑及合成中間體。
128
2,2二甲基（jī）丙烷-C5H12,(又叫新戊烷)
>99.9%,是生產異丁烯的原料,用（yòng）於生產合成丁烯橡膠。
129
3-甲基-1-丁烯-C5H10,(甲基丁烯)
>99.95%,用於有機合成中間體;也用於增加燃料的（de）辛烷值;用於塑料的聚合。
130
特戊酰氯-(CH3)3CCOCl
>99.99%,可製備（bèi）氯化氫與特戊酸;可與強氧化劑反應。
131
苯-C5H6
>99.999%,用作標準（zhǔn）氣、校正（zhèng）氣、零點氣;是染料、塑料、合成像膠、合（hé）成樹脂、合成纖維、合成藥物和農藥的原料。
132
己烷-C6H14
>99.9%,用作標準氣、校正氣;作溶劑。
133
三（sān）乙（yǐ）基鋁三氯-C6H15Al2Cl3
>99.99%,用於合（hé）成中間（jiān）體;烯類聚合催化劑,芳烴衍生物聚（jù）合的催（cuī）化劑。
134
環己烷-C6H12
>99.99%,用（yòng）作標準氣;用於製（zhì）備環己醇和環（huán）己酮;用於合成耐6;在塗料工業中廣泛用作溶劑,也是樹脂（zhī）、脂肪、石蠟、油類的極（jí）好溶劑。
135
己二酞氯-ClOC(CH2)4COCl
>99.99%,用於製備氯化氫與肥酸。
136
甲苯-C7H8
>99.99%,用作零點（diǎn）氣、校正氣;用於製造糖精、染料、藥物（wù）和（hé）炸藥等;也用作溶劑。
137
苯乙烯-C8H8
>99.9%,用作校正氣;用於製樹脂、塑料、合成橡膠等（děng）。
138
2-乙基己酰氯-C5H10,C2H5,COCl
>99.9%,可用於製備氯化氫和2-乙基己酸。
139
辛酰氯-CH3,(CH2,)6COCl
>99.9%,是氧化劑;可用於製備鹽酸與辛（xīn）酸。
140
氨基咪哇（wa）酮-C9H15,N3O3
>99.9%,用作（zuò）還原劑。
141
壬酰氯-CCH3(CH2)7COCl
>99.9%,用於製備鹽酸與壬（rén）酸。
142
新癸酰氯-C10H19OCl
>99.9%,用於製備鹽酸與新癸酸。
143
三異丁基鋁-C12H27,Al,(簡稱TIBA)
>99.99%,用於合成中間體,是聚（jù）合烯類和二烯類（lèi）的催化劑。
144
十二酰氯-CH3(CH2)10COCl
>99.9%,用於製備鹽酸與月桂酸。
145
十八（bā）酰氯（lǜ）-CH3(CH2)18COCl
＞99.9%,用於製備鹽酸（suān）與硬醋酸。
146
酚酞黃-C20H14O4
>99.9%,醫療用作瀉藥。
147
空（kōng）氣（qì）(或合成（chéng）空氣（qì）)-21%O2,79%N2,用作零點氣
超零點級空氣中含（hán）CnHm<0.lppm,零點級空氣中含CnHm<0.2ppm。零點級空氣經常用（yòng）於色譜儀火焰離子化檢定器和總碳量分析儀中的氧化劑。
148
仲氫-H2
>99.99%,用作火（huǒ）箭推進劑;核工業中用於氣泡室;冷電子工程低溫液態供固體電路研究用（yòng）。
149
純水（shuǐ）-H2O
>99.9999%,用作標準氣、校正氣。
150
氖-Ne
>99.999%,用作標準氣、特種混合氣;用於充（chōng）發光燈泡、電子管、訊號燈、等（děng）離子體研究、熒光（guāng）燈（dēng）中啟（qǐ）動（dòng）器（qì）、火花室、蓋革一彌勒（lè）管、
激光器;用作低溫冷卻劑。
151
氪氣-Kr
>99.995%,用作標準氣、特（tè）種混合氣、燈泡與電子工業用氣。
152
氙氣-Xe
>99.995%,用作標準氣、特種混合氣,用於電（diàn）光源、電子工業、充填閘流管和半波整流管。
153
溴氣-Br2
>99.99%,用於化學工業中製（zhì）備（bèi）澳化氫和其它嗅化合（hé）物、氧化劑、實驗試劑;也用於染料和攝影工業。
154
臭氧-O3
>99.99%,用（yòng）作醫療氣,用（yòng）於外科設備的消（xiāo）毒,人類用水和遊泳池的（de）淨化,工業廢品的處理,汙物消（xiāo）毒;紡織纖維、紙漿和糖類的漂白,樟腦的（de）製備,礦物油及其衍生物的淨化。
155
氰氣-C2N2
>99%,用作焊接（jiē）與切割耐熱金屬（shǔ）,與氧化（huà）劑、臭氧和氟氣混合後作火箭與（yǔ）導彈推進劑;醫（yī）學上作薰蒸劑;用於許多有機（jī）合成中的媒介物。
156
氯化氰-ClCN
>99%,用（yòng）於（yú）有機合成（chéng）;與薰蒸氣（qì）體（tǐ）相混合可作熱源。
157
氟化氫-HF
>99.9%,用於（yú）製備氟化物（wù）、氟氣;在異構化、冷凝過程、聚合、幹燥、水解反（fǎn）應等作為催化（huà）劑;在有些有機或無機反應中作為氟化劑（jì）。
158
亞硝酰氯（lǜ）-NOCl
>99%,用於有機（jī）化合（hé）物的重氮化、硝化、氯化作用;也用於（yú）石油熟化劑（jì）。
159
過氟二（èr）氯氧ClO3F
>99%,用於（yú）與氟鹵素類相混合,成為火箭發動機的液態氧化劑;也可供街族化合物作選擇性（xìng）的氟化劑。
160
碳酰氯-COCl2,(光氣)
>99.9%,用於染（rǎn）料、藥物、除蕎劑、殺蟲劑、合成泡沫、樹脂和聚合等（děng）有機合成;還用作氯化劑。
161
硫酰氟-SOF2
>99.5%,用（yòng）於製備氟碳化合物;是優良（liáng）的殺蟲薰蒸劑,用於集裝（zhuāng）箱、農作物種子、林木（mù）種子的薰蒸,倉庫、古建築、園林果木蛀幹性害蟲及白蟻的防治,以及文物檔案的保護;也用作催（cuī）化劑（jì）。
162
羰基鎳（niè）-Ni(CO)4
>99.95%,用於製備高純鎳;製成金（jīn）屬鏡及很薄的鎳（niè）箔;是碳化反應中有效的催（cuī）化劑。
163
羰基鐵-Fe(CO)5
在有的文獻中寫成Fe(CO)4〕,>99.95%,主要作鐵的載體,在汽（qì）油中作抗爆劑。
164
磷酸-H3PO4
>99.99%,用作校正氣;用於製磷酸鹽、甘（gān）油磷酸醋、磷酸按肥料;還作化學試劑（jì）。
165
過氙酸（suān）鈉-Na4XeO6·8H2O
>99.99%,強氧化劑（jì）,可測定水中汞含量。
166
一氧化碳-CO
>99.995%,用作標準氣、校正氣、在線儀表標準氣;與氫和其它氣體混合作（zuò）燃料氣;用於（yú）從含有鐵、鑽（zuàn）和銅的礦砂中回收（shōu）鎳;也可用於製備酸類、醚類和（hé）醇類化學品（pǐn）。
167
二氧化硫-SO2
>99.99%,用作標準氣、校正（zhèng）氣、在線儀表（biǎo）標準氣;用於啤酒、葡萄酒、肉類的防腐;硫化物和氧硫化物的製備;油類（lèi）和（hé）食品的漂白劑;硫化紙（zhǐ）漿的製備;製冰工業的冷卻劑。
168
二氧化（huà）氮（dàn）-NO2(N2O4)
>99.9%,用作標準氣;用於一些氧化（huà）反應的催化劑;在丙烯酸鹽類精餾時（shí）用於防止聚合,用（yòng）作（zuò）有機物的（de）硝化劑（jì）、氧化劑、火箭燃料一、麵粉漂白劑。
169
二（èr）氟化氧-OF2
>99.5%,用作氧化劑,是高能火（huǒ）箭（jiàn）推進（jìn）劑（jì）係統中的組成部分。
170
三（sān）氧化二氮-N2O3
>99.5%,與堿化合生成純堿亞硝（xiāo）酸鹽類;在特殊燃料（liào）係統中作（zuò）氧化劑,也（yě）用於萜烯類的鑒定。
171
三氧化氙-XeO3
>99.99%,用於通過氧化還原代替測定氧化溶液的含量(Xe6→Xe0)。
172
三氧化硫-SO3
>99.99%,用於化（huà）學工業中製備硫酸與發煙硫酸;是硫化劑;也用於染料工業。
173
三（sān）氟化氯-ClF3
>99.5%,用作火箭導彈（dàn）推進劑（jì）,當接觸到燃料時(自發能力)能使其立刻開始反應;也用作（zuò）油井（jǐng）管道切割劑,管道深達（dá）2公裏也可用它來切斷管子。
174
三氟化溴-BrF5
>99.5%,用作氟化劑和電解溶劑;也用（yòng）於火箭導彈的推進劑。
175
四氟化氮-N2F4
>99.9%,強氧化（huà）劑,可製備三氟化氮。
176
四氟化氙-XeF4
>99.9%,可用於製備（bèi）過氙（xiān）化合物和三氧化氙溶液。
177
五氟化溴（xiù）-BrF5
>99%,用作氟化劑;也用於火箭（jiàn）導彈的推進劑。
178
五氟化氯-ClF5
>99%,強烈（liè）的氧化劑（jì）,腐蝕性比三氟化氯小（xiǎo）,可製備（bèi）有機及無機氟化物;可作空間推進器的助燃劑。
179
五氟化（huà）碘-IF5
>99%,用作氟化劑和燃（rán）燒劑。
180
六氟化鉬-MoF5
>99.9%,強烈的氟化劑,也用於鑰的載體。
181
六氟化鉬-MoF5
>99.9%,強烈的氟化劑,也用於鑰的載體。
182
氟三氯（lǜ）甲烷（wán）(R11)-CCl3F
>99.95%,用（yòng）於冷凍工業、空調（diào）、溶劑
、滑冰場、鹽水和海水裝置、煙霧噴射劑、發泡劑、檢漏、紡織品的幹洗。
183
二氟二氯（lǜ）甲（jiǎ）烷(R12)-CCl2F2
>99.9%,用作標準氣、校正氣;用於低溫空調、食品貯藏、冷凍工業、煙（yān）霧噴射劑、檢漏、膨脹劑、氣相絕緣（yuán）材料。
184
二（èr）氟氯溴甲烷(R12B1)-CBrClF2
>99.9%,用於石油（yóu）、丙酮、二硫化碳生產（chǎn）中及電器著火時的滅火劑。
185
二氟二溴甲烷(R12B2)-CBr2F2
>99.9%,用於快速聚（jù）合（hé）;用作滅火劑。
186
二氯（lǜ）氟甲烷(R21)-CHCl2F
>99.9%,用於氣候很熱（rè）時的空調、冷凍劑、溶劑、煙（yān）霧（wù）噴射劑、化學媒介物。
187
二氟氯甲烷(R22)-CHCiF2
>99.9%,用（yòng）於冷卻和空調;在低溫噴霧特
殊情況下作煙霧噴射劑;氟化聚合物的生產和檢漏（lòu）。
188
二氟甲烷(R32)-CH2F2
>99%,用作冷凍劑,與五氟氯乙烷(R115)混合後形成共沸混合物的冷凍劑。
189
氯甲烷(R40)–CH3Cl
>99.5%,用作冷凍劑,局部麻醉處理;氣溶膠（jiāo）工業中當作（zuò）噴射氣體;有機合成（chéng）中用作甲基劑;作溶劑或萃取劑。
190
溴甲烷(R40B1)-CH3Br
>99.9%,用於有機合成(著（zhe）色劑)中甲基劑;低溫溶劑、冷凍劑;土壤與種子的薰（xūn）蒸劑。
191
氟甲烷(R41)-CH3F
>99.9%,以混合物用作非燃燒性的煙（yān）霧噴射劑。
192
l,1,2,-三氯三氟乙烷(R113)-C2Cl2F3,(俗（sú）稱TTE)
>99.9%,用作冷凍劑、傳熱介質;製備三氟氯乙烯(R1113)的中間媒（méi）介物。
193
1,2-二氯四氟乙烷(R114)-C2Cl2F4
>99%,用作冷凍、冷卻、空調,單獨與二氟二氯甲烷(R12)混合作為化妝品煙霧（wù）噴射劑。
194
1,2-二嗅四氟乙烷(R114B2)-C2Br2F4
>99.5%,用作溶劑、滅火劑,與其它氟碳（tàn）化合（hé）物（wù）相混合作噴射劑。
195
五（wǔ）氟氯乙烷(R115)-C2ClF5
>99.9%,用作（zuò）冷凍劑、煙（yān）霧噴射劑。
196
二氟氯乙烷(R142B)-C2H3ClF2
>99%,用作冷凍（dòng）劑、溶（róng）劑、與非（fēi）燃燒性（xìng）的鹵碳類化合物相混合作噴（pēn）射劑。
197
三氟（fú）乙烷(R143)-C2H3F3
>99.9%,用（yòng）作冷凍劑。
198
1,1-二氟乙烷（wán）(R152A)-C2H4F2
>99%,用（yòng）作冷凍劑、煙霧噴射劑、有機合成中間媒介物。
199
氯乙烷(R160)-C2H3Cl
>99.9%,用（yòng）於局部麻醉的醫療處理,外科和皮膚科的噴（pēn）霧醫療;在（zài）染料工業中當作乙基劑、冷凍劑（jì）、溶劑、殺蟲劑的生產。
200
氟乙（yǐ）烷(R161)-C2H5F
>99.9%,用於合成中間媒介物。
201
R-12與R152A共沸混合物(R500)-CCl2F2/C2HF5
>99.9%,用作（zuò）冷凍（dòng）劑、空調。
202
R-22與R115共沸混合物(R502)-CHClF2/C2H4F2
>99.9%,用作冷凍劑、空調、噴霧（wù）。
203
R-23與R13共沸混合物(R503)-CClF3/CHF3
>99.9%,用作冷凍（dòng）劑、空（kōng）調。
204
全氟丁烷(R601)-C4F10
>99%,用作絕緣氣體。
205
三氟氯乙烯(R1113)-C2ClF3
>99%,用於製備潤滑脂、油類、
蠟類、塑料的聚合劑,聚三（sān）氟氯乙烯的單體。
206
三氟溴乙烯(R113B1)-C2BrF3
>99%,用於（yú）聚合反應和化學（xué）中間體（tǐ）。
207
二氟氯乙烯(R1122)-C2HClF2
＞99.9%,用（yòng）於化學合成中間體（tǐ）。
208
1,1-二（èr）氟乙烷(R1132A)C2H2F2
>99%,是一個很重要的單體,用於生（shēng）產塑（sù）料及彈（dàn）性（xìng）體。
209
氯乙烯(R1140)-C2H3Cl
>99.9%,用作標準氣;用作聚合劑、有機合成的中間體。
210
氟乙烯(R1140)-C2H3F
>99.9%,用作（zuò）聚合劑、有機合成的（de）中間體。
211
氦-3–He3
>99.99%,充計（jì）數管;作稀釋製冷機超低溫冷源,可達4.5×10-3K。
212
氦-4-He4
>99.99%,在空間應用的低（dī）溫火箭燃料、核反應堆中重水及所有常溫與低溫的（de）液體均可用氦-4作壓送氣。
213
氘-D2
>99.95%,在核工業研究中應用（yòng）在氖核加（jiā）速器中作為拋射體;當放射丫能（néng）射線（xiàn）時作為中子源;在研（yán）究（jiū）化學反應時,包括氫化合物（wù）,可作（zuò）為軌跡用;用於生產重水(D2O)。
214
氚-T2
>99.95%,用作標準氣,控製每升為1000微（wēi）居裏,有很廣泛的活潑性（xìng）,與氖氬混合作為載氣,可用於檢測微量氮氣及其它稀有氣體。’
215
氧-18-O218
>99%,可製備H218O、D218O、S18O2。
216
氮-15-N215
>99%,可製備15NH3、16NO、15NO等。
217
氬-36–Ar36
>99.99%,計量值用。
218
氬-40-Ar40
>99.99%,計量值用。
219
氖-20Ne20
>99.99%,計量值用。
220
氖-22Ne22
>99.99%,計量值（zhí）用。
221
氪-85-Kr85
>99.99%,標準氣,控製每升為10微（wēi）居裏,充（chōng）燈泡用。
222
氪-86-Kr86
>99.9%用作標準氣。
223
氙-133-Xe133
>99.9%,充燈泡用。
224
碳-13-C13
>99%,可製備13CO2、13C6H8、13CO、13COS、13C2H4等。
225
碳（tàn）-14-C14
>99%,用作標準氣（qì）,控製每升（shēng）為100微居裏。
226
碳（tàn）-18-C18
>99.99%,可製（zhì）備C18O2、C18O。
227
硫-35-S35
>99%,用作標準氣,控製每升為100微居裏。
228
二甲（jiǎ）基鎘-(CH3)2Cd
純度＞99.999%,電子氣（qì）,用於MOCVD。
229
二乙基鎘（gé）-(C2H5)2Cd
>99.999%,電子氣,用於MOCVDo
230
四甲基錫-(CH3)4Sn
>99.999%,電子氣,用（yòng）於MOCVD。
231
四乙基錫（xī）-(C2H5)Sn
>99.999%,電子氣,_用於MOCVD。
232
三甲基砷-(CH3)3As
>99.999%,電子氣,用於（yú）MOCVD。
233
三乙基砷-(C2H5)3As
>99.999%,電子氣,用於MOCVD。
234
三乙基銻-(C2H5)3Sb
>99.999%,電子氣,用於（yú）MOCVD。
235
二乙基（jī）銦（yīn）-(C2H5)2ln
>99.9999%,電子氣,用（yòng）於MOCVD。
236
二甲基（jī）銦（yīn）-(CH3)2In,)
99.9999%,電子氣,用於MOCVD。
237
二乙基鎂-(C2H5)2Mg
>99.999%,電（diàn）子氣,用於MOCVD。
238
二甲基汞-(CH3)2Hg
>99.999%,電（diàn）子氣,用於MOCVD。
239
二乙基（jī）汞-(C2H5)2Hg
>99.999%,電子氣,用於MOCVD。
240
三甲基磷（lín）-(CH3)3P
>99.999%,電子氣,用於MOCVD。
241
三乙基磷-(C2H5)3P
>99.999%,電子氣,用於MOCVD。
422
三（sān）異丁基鋁-(i-C4H9)3AI
＞99.9999%,電子（zǐ）氣,用於MOCVD。
243
丙矽（guī）烷-Si3H8
>99%,電（diàn）子氣,用於CVD。
244
三氯化（huà）鋁-AlCl3
>99.999%,電子氣,用（yòng）於外延。
245
五氟化鉭（tǎn）-TaF5
>99.9%,電子氣,用於（yú）離子注入。
246
五氟化（huà）鉈-TlF5
>99.9%,電子氣,用於離子注入。
247
氯乙烯-C2H3Cl
99.9%,校正氣,用作冷凍劑。
248
氟乙烯-C2H3F
>99.9%,校（xiào）正氣（qì）,用於製聚乙烯（xī）樹脂和其它單體的共（gòng）聚物。
10種電子氣
1.三氯甲烷（wán）-CHCl3,>99.9%,用於等離子幹刻。
2.三氯乙烷-C2HCl3,>99.9%,用於熱氧化。
3.二甲基二氯矽烷-(CH3)2SiHCl2,>96%,用於外延、化學（xué）氣相澱積。
4.二甲基（jī）氯（lǜ）矽烷（wán）-(CH3)2SiHCl,>96%,用於外延、化學氣相澱積。
5.三甲基氯矽烷-(CH3)3SiCl,>95%,用於（yú）外延、化學氣相澱積。
6.二氟四氯（lǜ）乙烷-C2Cl4F2,>99.9%,用（yòng）於等離子幹刻。
7.六氟化矽-SiF2,>99.9%,用於等離子幹刻（kè）。
8.八氟（fú）甲烷-CF8,>99.9%,用於等離子幹刻。
9.異十氟丁烷-i-C4F10,>99.9%,用於等離子（zǐ）幹刻。
10.十二氟乙烷-C2F12,>99.9%,用於等離子幹刻。
2種有機氣體（tǐ）
1.乙烯基甲基醚-C3H3O,>99.5%。 2.乙烯基乙炔-CH2CHC2H,>50%。